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Hoja de Hafnio, Placa ASTM B776
- Description
-
Grado: Grado R1 (aplicación nuclear), Grado R3 (aplicación comercial)
Especificación:ASTM B776
Pureza:99.5%
Aplicación:
La mayoría de las hojas/placas de hafnio se funden para su uso en recubrimientos y procesos de deposición de vapor químico (CVD) y deposición de vapor físico (PVD), incluyendo evaporación térmica y de haz de electrones (E-Beam), evaporación orgánica a baja temperatura, deposición de capas atómicas (ALD), deposición de vapor organometálico y químico (MOCVD) para aplicaciones específicas como celdas de combustible y energía solar.
Rendimiento físico:
Densidad: 13.31g/cm³
Punto de fusión: 2227 ℃
Punto de ebullición: 4602 ℃
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Nuestra compañía de OMD engancha principalmente a los materiales del metal del titanio, del níquel, del circonio, del niobio, del tantalio, del tungsteno, del molibdeno, del etc., la tubería producting, barras, hojas es nuestra fuerza fuerte.