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Crucible de tungsteno de alta pureza
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Descripción del tungsteno:
Material: Tungsteno (99.95%) Punto de fusión: 3407 ℃ Tasa de llenado recomendada: 67~75%
Pureza: W≥99.95% Tamaño: Personalizado
Densidad: ≥18.2g/cm3 Superficie: Ra≤3.2 Temperatura de operación: ≤2400 Grados C
Método de producción: Sinterizado (OD>70mm); Forjado (OD<70mm)Se recomienda usar bajo gas inerte. Usar en aire o en un ambiente rico en oxígeno causará la oxidación del crisol de W y acortará la vida útil del crisol.
El tungsteno (W) tiene un alto punto de fusión, resistencia a la fricción/corrupción y un pequeño coeficiente de expansión térmica. El crisol de tungsteno se utiliza ampliamente para el crecimiento de cristales de zafiro, fusión de vidrio de cuarzo, fusión de materiales de tierras raras y pulverización electrónica. Se recomienda el procesamiento en polvo antes de la calcinación.
Crisol de tungsteno por deposición de vapor químico (CVD)
El crisol de tungsteno producido por CVD tiene algunas características como alta densidad de hasta 98.5% de la densidad teórica, alta pureza de 99.9999%, la microestructura particular de cristal columnar o cristal columnar multicapa, etc.
Aplicaciones del crisol de tungsteno:
1. Fabricación de semiconductores: Utilizado para fundir y mantener materiales de alta pureza como silicio, arseniuro de galio y germanio durante el proceso de crecimiento de cristales en la fabricación de semiconductores.2. Metalurgia: Empleado en la producción de aleaciones y metales de alta temperatura como titanio, acero y superaleaciones, donde los crisoles de tungsteno proporcionan un ambiente estable e inerte para los procesos de fusión y fundición.
3. Procesamiento químico: Utilizado para contener y calentar productos químicos altamente corrosivos y sales fundidas en procesos de síntesis química, refinación y purificación debido a la resistencia del tungsteno a la corrosión y altas temperaturas.
4. Fabricación de vidrio: Encontrado en la producción de vidrios especiales y fibras ópticas, donde los crisoles de tungsteno proporcionan un ambiente estable y libre de contaminación para la fusión y conformación de materiales de vidrio.
5. Deposición de películas delgadas: Utilizado en procesos de deposición de vapor físico (PVD) y deposición de vapor químico (CVD) para producir películas delgadas y recubrimientos en sustratos en las industrias de semiconductores, óptica y aeroespacial.
6. Investigación de laboratorio: Empleado en entornos de laboratorio para experimentos a alta temperatura, síntesis de materiales y reacciones químicas donde se requieren contenedores inertes y estables.
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Nuestra compañía de OMD engancha principalmente a los materiales del metal del titanio, del níquel, del circonio, del niobio, del tantalio, del tungsteno, del molibdeno, del etc., la tubería producting, barras, hojas es nuestra fuerza fuerte.