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Placa de lámina de tántalo Ta ASTM B708
- Description
-
Grado de material: Ta puro: R05200; R05400; Tira/Lámina/Placa de Tantalio Niobio R05240 (Ta-40Nb);
Tira/Lámina/Placa de Tantalio Tungsteno R05252 (Ta-2.5W), R05255 (Ta-10W).
Tantalio y aleación de tantalio
R05200, tantalio no aleado, horno de haz de electrones o fusión por arco de vacío, o ambos
R05400, tantalio no aleado, consolidación por metalurgia de polvos.
R05255, aleación de tantalio, 90 % tantalio, 10 % tungsteno, horno de haz de electrones o fusión por arco de vacío, o ambos.
R05252, aleación de tantalio, 97.5 % tantalio, 2.5 % tungsteno, horno de haz de electrones o fusión por arco de vacío, o ambos.
R05240, aleación de tantalio, 60 % tantalio, 40 % niobio, horno de haz de electrones o fusión por arco de vacío.Especificación estándar: ASTM B708, ASTM F560 (Grado médico incluyendo UNS R05200, UNS R05400)
Descripción del tantalio:
El tantalio, un metal versátil, encuentra aplicaciones generalizadas en diversas industrias. En laboratorios, es un componente esencial para equipos de precisión, asegurando la exactitud en experimentos científicos. Su papel como sustituto rentable del platino lo hace valioso en varios procesos industriales. La presencia del tantalio es vital en la fabricación de superaleaciones, contribuyendo a su resistencia y durabilidad, especialmente en la fusión por haz de electrones. Industrias como la metalurgia, el procesamiento de maquinaria, el vidrio y la cerámica se benefician de sus propiedades resistentes a la corrosión. El tantalio sirve como aditivo en superaleaciones a base de níquel, mejorando su rendimiento en condiciones desafiantes. Además, juega un papel clave en la producción de objetivos de pulverización, vitales para la fabricación de semiconductores. Más allá de esto, el tantalio se utiliza en la creación de oídos artificiales y para crear sellos efectivos de vidrio o metal.
Propiedades físicas del tantalio:
Densidad: 16.69 g/cm³
Punto de fusión: 3290 K 3017°C 5463°F
Punto de ebullición: 5731 K 5458°C 9856°F
Aplicación de lámina de tantalio y aleación de tantalio:
Utilizado, por ejemplo, en la industria química para la purificación del agua o como barrera de difusión en máquinas de rayos X.
Utilizado para fabricar componentes de motores, partes de misiles y componentes de naves espaciales.
Utilizado como componentes en equipos de fabricación de semiconductores.
Utilizado en equipos para manejar ácidos y álcalis fuertes.
Palabras clave:
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