Grado de material:  Ta puro: R05200; R05400
R05200, tantalio no aleado, fusión por haz de electrones o fusión por arco de vacío, o ambos
R05400, tantalio no aleado, consolidación por metalurgia de polvos.

Pureza:99.95%; 99.99%

Especificación estándar: ASTM B708

Componentes químicos (wt%, máx):

Descripción del tantalio:

El tantalio, un metal versátil, encuentra aplicaciones generalizadas en diversas industrias. En laboratorios, es un componente esencial para equipos de precisión, asegurando la exactitud en experimentos científicos. Su papel como sustituto rentable del platino lo hace valioso en varios procesos industriales. La presencia del tantalio es vital en la fabricación de superaleaciones, contribuyendo a su resistencia y durabilidad, especialmente en la fusión por haz de electrones. Industrias como la metalurgia, el procesamiento de maquinaria, el vidrio y la cerámica se benefician de sus propiedades resistentes a la corrosión. El tantalio sirve como aditivo en superaleaciones a base de níquel, mejorando su rendimiento en condiciones desafiantes. Además, juega un papel clave en la producción de objetivos de pulverización, vitales para la fabricación de semiconductores. Más allá de esto, el tantalio se utiliza en la creación de oídos artificiales y para crear sellos efectivos de vidrio o metal.

Propiedades físicas del tantalio:

Densidad: 16.69 g/cm³

Punto de fusión: 3290 K 3017°C 5463°F

Punto de ebullición: 5731 K 5458°C 9856°F

Aplicaciones de objetivos de pulverización de tantalio:
1. Electrónica: Los objetivos de pulverización de tantalio se utilizan ampliamente en la industria electrónica para la deposición de películas de tantalio en circuitos integrados, capacitores y otros componentes microelectrónicos. La alta pureza y resistencia a la corrosión del tantalio lo convierten en un material ideal para estas aplicaciones.

2. Óptica: Los objetivos de pulverización de tantalio también se utilizan en la industria óptica para la deposición de películas de tantalio en componentes ópticos, como lentes y espejos. La alta transparencia y dureza del tantalio lo hacen adecuado para esta aplicación.

3. Energía solar de película delgada: Los objetivos de pulverización de tantalio se emplean en la producción de células solares de película delgada. La deposición de películas de tantalio en células solares mejora su eficiencia y fiabilidad.

4. Almacenamiento magnético: En la industria de almacenamiento magnético, los objetivos de pulverización de tantalio se utilizan para depositar películas de tantalio en discos y cintas magnéticas, mejorando su durabilidad y rendimiento.

5. Recubrimientos decorativos: Debido a la apariencia atractiva del tantalio, los objetivos de pulverización de tantalio también se utilizan en la producción de recubrimientos decorativos para varios productos de consumo, como joyas y relojes.