Material:Barra de cristal de zirconio (Materias primas para fabricar objetivos de pulverización.)

Especificación:ASTM B550Pureza:99.95%

Descripción:El Zr tiene una pequeña sección transversal de absorción de neutrones y un punto de fusión relativamente alto, lo que hace que el zirconio sea un excelente material para varillas de energía nuclear. La esponja de zirconio y las barras de cristal son las materias primas para fabricar objetivos de pulverización. Aunque la esponja de Zr es barata y tiene baja pureza, contiene un alto contenido de oxígeno. Las barras de cristal de zirconio tienen un costo y pureza más altos, lo que las convierte en materiales ideales para objetivos de pulverización. El zirconio presenta una alta eficiencia de transferencia de calor, baja expansión térmica y alta resistencia a la erosión bajo tensión y corrosión localizada. También tiene muy buena resistencia en la mayoría de los ácidos orgánicos, baja absorción de neutrones térmicos y resistencia a la corrosión en ácidos minerales.

Componentes químicos (wt%, máx):

Aplicaciones de objetivos de pulverización de zirconio:

1. Fabricación de semiconductores: Utilizado en la deposición de películas delgadas de zirconio sobre sustratos semiconductores durante la fabricación de circuitos integrados (IC), microchips y otros componentes electrónicos. Los objetivos de pulverización de zirconio ayudan a crear películas delgadas con un grosor y uniformidad precisos, cruciales para el rendimiento y la fiabilidad de los dispositivos semiconductores.

2. Recubrimientos ópticos: Utilizados en la producción de recubrimientos ópticos para lentes, espejos y otros componentes ópticos en industrias como telecomunicaciones, aeroespacial e investigación científica. Las películas delgadas de zirconio depositadas por objetivos de pulverización mejoran las propiedades ópticas de las superficies, como la reflectividad y la transmisión de luz, para diversas aplicaciones.

3. Ingeniería de superficies: Empleados en procesos de modificación de superficies, incluida la deposición de recubrimientos de zirconio para mejorar la resistencia al desgaste, la resistencia a la corrosión y la biocompatibilidad de los materiales. Los objetivos de pulverización de zirconio permiten la deposición de películas delgadas con propiedades personalizadas para cumplir con requisitos específicos en industrias como la automotriz, médica y aeroespacial.

4. Celdas solares de película delgada: Utilizados en la producción de celdas solares de película delgada, donde los materiales a base de zirconio sirven como capas de amortiguación, óxidos conductores transparentes o contactos traseros para mejorar la eficiencia y el rendimiento de los paneles solares. Los objetivos de pulverización de zirconio juegan un papel crucial en la deposición de estas capas de película delgada con control preciso sobre la composición y el grosor.

Propiedades físicas:Densidad: 6.5g/cm3; Punto de fusión: 1852°C; Punto de ebullición: 3580°C